La micrografía del microscopio electrónico de barrido (MEB) muestra una matriz de aluminio 6061 (Al-Mg-Si) y partículas de refuerzo del intermetálico MoSi2 de tamaño 10-45 µm distribuidas en la matriz. Está realizada con una inclinación de 70° con respecto a la horizontal. El objetivo es el estudio del tamaño y la orientación de los granos de la matriz a través de la técnica de difracción de electrones retrodispersados (EBSD) que se encuentra acoplada al sistema MEB. La diferencia binārās opcijas de relieve entre las partículas y el aluminio provocado por el pulido se debe a la diferente naturaleza de las fases, ya que el MoSi2; es mucho más duro que la matriz.

Columna de silicio cristalino realizada por medio de un ataque seco con un equipo de Deep Reactive Ion Etching (DRIE). En la parte superior se puede observar el material de máscara, óxido de silicio, con forma circular y de 1 micra de diámetro. La columna tiene más de 5 micras de altura y, debido a las características del ataque, queda mucho más delgada en algunas zonas. Por eso, la estructura resultante parece estar dividida en varios bloques apilados en un equilibrio inestable. La extrema delgadez da una idea del límite estructural, en cuanto a equilibrio, de una formación de pocos nanómetros sobre un punto.