Columna de silicio cristalino realizada por medio de un ataque seco con un equipo de Deep Reactive Ion Etching (DRIE). En la parte superior se puede observar el material de máscara, óxido de silicio, con forma circular y de 1 micra de diámetro. La columna tiene más de 5 micras de altura y, debido a las características del ataque, queda mucho más delgada en algunas zonas. Por eso, la estructura resultante parece estar dividida en varios bloques apilados en un equilibrio inestable. La extrema delgadez da una idea del límite estructural, en cuanto a equilibrio, de una formación de pocos nanómetros sobre un punto.